光谱仪系统

ThinProcess®系列在线监测光谱仪系统

蔡司ThinProcess®是一种端到端的解决方案，能够以实验室级精度控制和监测大面积镀膜工艺的质量。ThinProcess®非常适合用于在真空或大气环境中对卧式/立式玻璃镀膜以及卷对卷薄膜进行测量。

实验室级别的准确性
高测量频率

在生产线中发挥关键作用面向在线过程监测的ThinProcess®解决方案

ThinProcess®以实验室级准确性为您提供监测大面积镀膜生产质量所需的一切信息。我们先进的软件采用了全新的蔡司测量硬件解决方案，这些解决方案具有可配置的硬件并使用不同的现场总线，因此可以集成到众多生产线中。ThinProcess®能够在工艺过程中提供高精度水平，并可计算关键数据，例如颜色值、镀膜厚度和光谱的其他特征。

ThinProcess®为如下所有大面积镀膜工艺的在线过程监测提供解决方案：
✔ 卧式或立式玻璃镀膜
✔ 卷对卷镀膜
✔ 真空或大气中镀膜

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ThinProcess® P

蔡司ThinProcess® P是一种单通道或多通道测量系统，用于测定一个或多个镀膜工序之后的光学特性。离散基材会被自动识别，而样品间隙则用于自动触发和参考。测量可在真空或大气环境中进行。

✔ 测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率
✔ 计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等
✔ 波长范围最大可扩展至1650 nm
✔ 面电阻测量

ThinProcess® Q

蔡司 ThinProcess® Q是一种横向扫描测量系统，可以测定成品的光学和光谱特性。该系统提供多种自动扫描模式，用于测量最终产品上的预定义位置。

✔ 测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率
✔ 计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等
✔ 波长范围最大可扩展至1650或2150 nm
✔ 采用55°倾角执行颜色测量

ThinProcess® R

蔡司ThinProcess® R是一种单通道或多通道测量系统，用于测定一个或多个镀膜工序之后的光学特性。
该系统可通过数字I/O或现场总线信号进行控制来激活测量和参考。
如果窗格之间的间隙太小或工艺速度过快而无法进行自动检测，它就是理想的解决方案。
测量可在真空或大气环境中进行。

✔ 测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率
✔ 计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等
✔ 波长范围从365 nm扩展至1650或2150 nm
✔ 面电阻测量

ThinProcess® WEB

蔡司ThinProcess® WEB是一种单通道或多通道测量系统，用于测定卷绕镀膜工厂中一个或多个镀膜工序之后的光学特性。测量体系可以完全集成到机器的自动化策略中。测量可在真空或大气环境中进行。

✔ 测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率
✔ 计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等
✔ 波长范围从340 nm扩展至1650或从365 nm扩展至2150 nm
✔ 面电阻测量

拓展您的应用

为您的硬件匹配合适的软件

engineer sits in front of the computer in a production environment in his office, the screen show the interface of the thinprocess software

ThinProcess®的专用软件

ThinProcess®软件专为ThinProcess®光谱仪系列产品设计。使用ProcessLinker，您可以通过数据可视化以及与更高级别控制系统的通信，密切关注工艺信息和参考值。
从颜色和厚度到光谱评估和吸光度，ThinProcess®软件可执行各种计算和测量，并能通过定制来满足您的具体需求。

ThinProcess®软件

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