持续评估工艺参数 蔡司批处理解决方案

ThinProcess®可直接在生产线上使用，也可在工艺过程环境附近作为台式设备使用。该系统能够轻松地进行调整，并适应现有或新的镀膜工艺。它兼具测量速度快、准确和重复性高的特点，不仅可以节省时间和资金，还能优化生产。

当生产全速进行时，您需要准确的数据快速作出决策。ThinProcess®为您提供对过程的实时洞察，且将结果存储在开放的备案SQL数据库中，还可在此处对信息进行比较和基准测试。

宽裕的测量空间使得对微结构表面进行更快更准确的在线过程控制成为现实。此外，我们也是一家无需参考标准即可提供绝对光谱反射测量的制造商，即便在真空环境下也是如此。我们还为汽车行业提供防护膜和黄度测量。

ThinProcess®支持多种常见的现场总线，因此可以轻松集成到更高级别或自主控制系统中，以及通过SECS/GEM PV2标准集成到MES。与第三方软件结合使用，您可以测量四层或更多层。Optilayer用户可根据我们的数据评估更多膜层，我们还支持数据传输。