
高端FIB-SEM
蔡司Crossbeam
用于三维
扫描电子显微镜(SEM)和聚焦离子束(FIB)的结合使我们有可能在小尺度(纳米范围)上对材料进行特殊切割,并直接对表面以下的材料结构进行成像。典型应用包括局部缺陷的准确定位和化学分析(EDX)。
用于工业的蔡司Crossbeam
体验全新的样品检测质量

制备薄片,以便在TEM(透射电子显微镜)或STEM(扫描透射电子显微镜)中进行分析。蔡司Crossbeam为制备TEM薄片提供了完整的解决方案,甚至可以批量制备。
FIB镜筒Ion-sculptor的低电压性能可支持高质量的薄片,并避免易碎样品变质。使用简单的工作流开始工作,等待自动执行。端点检测软件可提供有关薄片厚度的准确信息,让您受益匪浅。
选配的飞秒激光器可用于材料烧蚀、更深入地观察结构以及制备大型样品。

应用领域一览
- 局部截面,例如缺陷部位(薄膜生长缺陷、腐蚀、滞留颗粒等)的截面
- TEM薄片制备
- 透射高分辨率截面研究(STEM)
- 微观结构或局部缺陷的三维断层扫描
- 通过定向材料去除加工结构
通过我们的视频了解更多有关蔡司Crossbeam的信息

在感兴趣的光镜图像上叠加激光切割的沟槽;SEM,SESI,450倍。