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平面光栅是扁平衍射光栅，广泛应用于工业领域，如单色仪和多色仪、激光技术和分光、航空航天工程领域及反射标准。平面机械刻划光栅专为一阶衍射而设计，通过自动校直在某些波长上获得非常大衍射效率。通过刻线间距、槽型深度和闪耀角来定义能量分布。
蔡司平面光栅对 150 nm 和 50 µm 之间的光谱范围进行了优化。采用机械刻划或全息记录的方式制作光栅，所采用方法取决于是否能获得优异的结果。可能的光栅槽型有刻痕或闪耀、正弦和层状或二进制。
